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SK keyfoundry成功开发450V-2300V SiC平面MOSFET工艺平台,斩获1200V新品订单,正式开启SiC业务全面布局

发布于:2026-03-11 08:00:00 来源:SK keyfoundry.
  • 成功开发450V-2300V SiC平面MOSFET工艺平台,确保高可靠性与良率竞争力
  • 启动为新客户开发1200V SiC MOSFET,加速SiC化合物半导体代工业务进程

韩国首尔2026年3月11日 美通社 -- 韩国8英寸纯晶圆代工厂SK keyfoundry宣布,公司近期已完成SiC(碳化硅)平面MOSFET工艺平台的开发。当前,该平台在新一代化合物功率半导体市场中正备受青睐。公司还透露,已获得一家新客户的1200V SiC MOSFET产品开发订单,这标志着其全面启动SiC化合物半导体代工业务。

SK keyfoundry推出的全新SiC平面MOSFET工艺平台支持450V至2300V的宽电压范围。该平台已在高压工作环境下获得了高可靠性与稳定性数据,证明了其卓越性能。此外,通过全面优化工艺流程并实现对核心制程的精准管控,公司已将产品良率提升至90%以上,同时提高了生产效率。SK keyfoundry还表示,公司提供差异化的“定制化工艺支持服务”,能够根据客户的特定需求微调电气特性与规格参数。

随着该工艺平台开发的完成,SK keyfoundry已获得一家专注于SiC设计的客户的1200V高压产品订单,并启动了产品开发工作。该工艺将应用于客户的工业设备,在热效率管理方面发挥关键作用。完成样片评估和可靠性验证后,公司计划于2027年上半年启动全面量产。

此次SiC平面MOSFET工艺平台的开发,是SK keyfoundry收购SiC专业公司SK powertech后,整合双方核心能力的首个成果。技术研发完成后随即获得实际客户订单,也印证了该平台已跨越技术验证阶段,具备了可立即投入商业化的成熟度与竞争力。

SK keyfoundry首席执行官Derek D. Lee表示:“SiC平面MOSFET工艺平台的开发,标志着SK keyfoundry已在全球化合物半导体市场确立了独立的技术领导地位。依托我们兼具高良率与高可靠性的差异化工艺,我们将持续拓展高压功率半导体解决方案,以满足国内外客户的需求。”

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